Wolfram-Titan-Legierung Target für Chips

Tungsten-Titan-Legierung Target für Chips

Der Hauptgrund, warum sich neue Halbleiterchips für Wolfram-Titan-Legierung entscheiden Ziele als Diffusionsbarriere und Bindeschicht ist, dass die Legierung eine gute Oberflächenhaftung und ausgezeichnete Wärmeableitungseigenschaften aufweist. Auf diese Weise hat das vorbereitete Produkt eine höhere Gesamtleistung.

Wolfram-Titan-Legierung Target für Chips

Wolfram-Titan-Legierung ist eine Legierung mit den Vorteilen der Übergangsmetalle Wolfram und Titan. Es hat die Eigenschaften einer höheren Dichte und Reinheit, einer besseren Korrosionsbeständigkeit und eines geringeren Volumenexpansionseffekts, wodurch die Bildung von Partikeln im Herstellungsprozess effektiv reduziert werden kann, dh es kann erfolgreich hochwertige Filme herstellen.

Das Folgende ist eine Aufbereitungsmethode für Wolfram-Titan-Legierung:

Schritt 1. Nehmen Sie eine bestimmte Menge Wolframpulver und Titanpulver und unter Schutz einer inerten Atmosphäre gleichmäßig mischen. Der Massenanteil des Wolframpulvers beträgt 10-65%.

Schritt 2. Eine mechanische Presse oder eine kaltisostatische Presse wird verwendet, um das resultierende gemischte Material zu einem Rohling zu pressen.

Schritt 3. Der hergestellte Rohling wird zum Verdichten und Sintern in einen Vakuum-Sinterofen gelegt.

Schritt 4. Nach dem Abkühlen des in Schritt 3 gesinterten Wolfram-Titan-Materials wird es in einem nicht verbrauchbaren Vakuum-Elektrolichtbogenofen geschmolzen, um das Produkt zu erhalten.

Verglichen mit anderen Präparationsmethoden sind die Vorteile dieser Wolfram-Titan-Legierungs-Präparationsmethode:

1. Der Produktionsprozess ist einfach und die Bedienung ist bequem.

2. Unter Verwendung der gemischten Rohstoffe aus Wolfram- und Titanpulver können Press-, Sinter- und Lichtbogenschmelzprozesse die technischen Probleme der geringen Herstellungseffizienz der traditionellen Wolfram-Titan-Legierung und der schwierigen Kontrolle der Materialgleichmäßigkeit und des Verunreinigungsgehalts effektiv lösen.

3. Das nach diesem Verfahren hergestellte Wolfram-Titan-Legierungsmaterial hat einen Wolfram-Massenprozentsatz von 10-60%, was für die Chargenherstellung geeignet ist.

Schlussfolgerung 

Vielen Dank für das Lesen unseres Artikels und hoffen, dass er Ihnen helfen kann, die Wolfram-Titan-Legierung besser zu verstehen. Wenn Sie mehr über andere hochschmelzende Metalle und Legierungen erfahren möchten, empfehlen wir Ihnen, Advanced Refractory Metals (ARM) zu besuchen für weitere Informationen.

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