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Hochreines Wolfram-Target für Halbleiterchips


Hochreines Wolfram-Target für Halbleiterchips

Das hochreine Wolfram Target ist ein typisches chemisches Produkt des Übergangsmetalls Wolfram. Aufgrund seiner hohen Reinheit (mehr als 99,95 %), hoher Dichte (19,35 g/cm3), niedrigem Dampfdruck, geringer Verdampfungsrate und Hochtemperaturbeständigkeit wird es häufig zur Herstellung von ultrakleinem Wolframoxid<. verwendet /strong> Filme.

Hochreines Wolfram-Target für Halbleiterchips

Was die aktuellen heißen Halbleiterchips betrifft, kann der neue Wolframoxidfilm als Diffusionsbarriere, als Klebeschicht und als Speicherelektrode für große integrierte Schaltungen usw. dienen ., was die Gesamtqualität von Chipprodukten erheblich verbessern kann.

Wie erzeugen hochreine Wolfram-Targets Wolframoxidschichten? Sputtern ist eine der Haupttechniken zur Herstellung von Wolframoxid-Dünnschichtmaterialien. Es bombardiert Wolfram-Targets mit Hochgeschwindigkeits-Ionen, und die erzeugten Atome werden emittiert und auf der Oberfläche des Substrats angesammelt, um eine Beschichtung zu bilden. Der Wolframoxidfilm, der durch das Target-Sputter-Abscheidungsverfahren hergestellt wird, hat die Vorteile einer hohen Dichte, einer guten Haftung und einer guten Korrosionsbeständigkeit, sodass er für die Verwendung in Halbleiterchips geeignet ist.

Wie erstelle ich das Wolfram-Target?

Zunächst das Wolframpulver in den Mantel eingebracht und evakuiert und das Wolframpulver im Mantel durch das kaltisostatische Pressverfahren erstmals zum ersten Wolfram-Targetrohling verdichtet. Nach der ersten Verdichtungsbehandlung wird die Ummantelung entfernt und der erste Wolfram-Target-Rohling wird einer zweiten Verdichtungsbehandlung unter Verwendung eines Induktionssinterprozesses unterzogen, um einen zweiten Wolfram-Target-Rohling zu bilden. Nach der zweiten Verdichtungsbehandlung wird der zweite Wolfram-Target-Rohling einer dritten Verdichtungsbehandlung unter Verwendung eines isostatischen Heißpressprozesses unterzogen, um ein Wolfram-Target zu bilden.

Das durch das Verfahren hergestellte Wolfram-Target weist die Eigenschaften einer hohen Dichte, eines geringen Fremdstoffgehalts, einer starken mechanischen Stabilität, einer guten Gleichmäßigkeit der inneren Struktur und einer großen Kristallkorngröße auf, die die Anforderungen moderner Sputterprozesse besser erfüllen.

Schlussfolgerung 

Vielen Dank für das Lesen unseres Artikels und hoffen, dass er Ihnen helfen kann, das hochreine Wolfram-Target besser zu verstehen. Wenn Sie mehr über das Refraktärmetall Wolfram erfahren möchten, empfehlen wir Ihnen den Besuch von Advanced Refractory Metals (ARM) für weitere Informationen.

Mit Hauptsitz in Lake Forest, Kalifornien, USA, Advanced Refractory Metals (ARM)  ist ein weltweit führender Hersteller und Lieferant von feuerfesten Metallen und Legierungen. Es bietet Kunden hochwertige hochschmelzende Metalle und Legierungen wie Niob ,  Molybdän, Tantal, Rhenium , Wolfram, Titan,  und  Zirkonium zu einem sehr konkurrenzfähigen Preis.


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