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Semitron® MPR1000 für die Halbleiterindustrie

 

Semitron® MPR1000 ist ein neues technisches Material, das von Mitsuibishi Chemical Advanced Materials für Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. MPR steht für maximale Plasmaresistenz. Es ist für den Einsatz in Vakuum-Plasmakammern vorgesehen, um Keramik und Quarz für die ICU-Produktion zu ersetzen. Keramik ist teurer und Quarz bricht leicht. Es schneidet auch in dieser Anwendung besser ab als PEEK, PAI wie Torlon® oder Polyimid-Thermoplaste. Zum Beispiel hat MRP1000 in Plasmakammern eine bis zu 25-fache längere Lebensdauer in Ozon als Polyimide wie Vespel®.

Zu den aus MPR1000 hergestellten Teilen gehören Schrauben, Sechskantmuttern, Unterlegscheiben, Klemmringe, Grabenringe, Stifte und Duschköpfe sowie Zentrierstifte, Fokusringe, Isolatoren, Vakuumteller, Waferführungen und viele kundenspezifische Teile.

Vorteile von Semitron® MPR1000

Ausgezeichnete Hitzebeständigkeit

Geringe Erosionsrate in Plasmakammern

Niedriger Ionengehalt und geringe Ausgasung

Ausgezeichnete Spanbeständigkeit

Ausgezeichnete Haltbarkeit

Leicht zu bearbeiten

Kostengünstigstes Kunststoffmaterial, das auch die höchste Leistung in Plasmakammern bietet 

Was ist Plasma?

Plasma wird oft als vierter Aggregatzustand bezeichnet, da es weder flüssig, gasförmig noch fest ist. Es existiert in Form von Ionen und Elektronen. Im Wesentlichen ist Plasma ein ionisiertes Gas, das mit zusätzlichen negativen und positiven Elektronen elektrisiert ist. Während Plasma anderswo im Universum existiert, gibt es hier auf der Erde nur wenig, was natürlich vorkommt. Beispiele für Plasma auf unserem Planeten sind Blitze, statische Elektrizität und Polarlichter.

Warum eine Oberfläche mit Plasma behandeln?

Die Plasmabehandlung der Oberfläche eines Siliziumwafers wird normalerweise zum Reinigen, Oberflächenaktivieren, Abscheiden und Ätzen durchgeführt. Die Behandlung von Oberflächen mit Plasma entfernt jegliche Fremdverunreinigungen und macht sie somit besser für die Weiterverarbeitung geeignet.

Die Plasmabehandlung einer Oberfläche erfolgt normalerweise in einer Kammer, aus der die Luft evakuiert wurde. Dann strömt ein Gas mit niedrigem Druck in die Kammer. Als Prozessgas wird in der Regel industrieller Sauerstoff verwendet, daher der allgemein bekannte Begriff „sauerstoffreiches Plasma“. Aber auch Stickstoff, Argon, Wasserstoff und Kohlenstofftetrafluormethan werden häufig verwendet. Diese Gase oder eine Kombination davon werden in den meisten Labors weltweit verwendet. Semitron MPR1000 hält diesen rauen Umgebungsbedingungen besser stand als herkömmliche Materialien:Quarz, Keramik, Torlon®, Vespel® oder PEEK.

Das Gas wird dann durch Hochfrequenzenergie, die zwischen einer Elektrodenanordnung erzeugt wurde, mit Energie versorgt. Das Ergebnis ist Plasma. Durch die Wahl von Gasgemisch, Druck und Leistung kann die Wirkung der Plasmabehandlung auf die Oberfläche genau gesteuert werden.

Geringe Erosionsrate

Im Vergleich zum prozentualen Gewichtsverlust in sauerstoffreichem Plasma übertrifft Semitron® MPR1000 PEEK, Torlon® und Vespel®. MPR1000 erodiert um 0,44 % in 1 kW. PEEK verliert 7,98 %, während Torlon um 6,86 % und Vespel um 6,15 % erodiert. MPR1000 ist 13-mal besser als Vespel.

Sauberkeit:geringer Ionengehalt und geringe Ausgasung

Semitron® MPR1000 hat einen geringen Gehalt an ionischem Material und eine geringe Ausgasung. Ein Ion ist ein Atom oder ein Molekül, das eine elektrische Ladung trägt. Daher sind Verunreinigungen aus dem Material in der Vakuum-Plasmakammer gering.

Kosten

Semitron® MPR1000 ist in den Gesamtkosten niedriger als andere üblicherweise verwendete Materialien und bietet gleichzeitig die höchste Leistung in Plasmakammern.

Drucke, Teile oder Probleme? Kontaktieren Sie uns bei Craftech Industries, Inc. Hudson, NY.

Craftech ist ein Hersteller von Befestigungselementen, Komponenten und kundenspezifischen Teilen in Semitron MPR1000.


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