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Sub-100-nm-Nanostrukturen durch Zwei-Photonen-Polymerisation: Präzisionsfertigung, Materialeffekte und Lasersteuerung

Zusammenfassung

In dieser Arbeit werden Ansätze zur Realisierung hochauflösender periodischer Strukturen mit Lückengrößen im Sub-100-nm-Maßstab durch Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) vorgestellt. Der Einfluss der Laserintensität auf Merkmalsgrößen und Oberflächenqualität wird untersucht. Der Einfluss verschiedener photosensitiver Materialien auf die Strukturformierung wird verglichen. Basierend auf der elliptischen Geometrie des Voxels präsentieren die Autoren eine Idee zur Realisierung hochauflösender Strukturen mit Merkmalsgrößen unter 100 nm durch Steuerung der Laserfokusposition relativ zum Glassubstrat. Diese Untersuchung umfasst Strukturen, die jeweils in der Ebene entlang und senkrecht zur Hauptachse des Voxels gefertigt werden. Die Autoren bieten auch einen nützlichen Ansatz zur Steuerung der Fertigung der vorgeschlagenen periodischen Struktur mit einer periodischen Distanz von 200 nm und einer Lückengröße von 65 nm.

Einleitung

Die Nachfrage nach Verkleinerung von Geräten wächst rasant mit dem kontinuierlichen Fortschritt der Nanotechnologie in den letzten Jahren. Miniaturisierte Strukturen mit Merkmalsgrößen unterhalb der Beugungsgrenze finden Anwendung in verschiedenen Bereichen wie Plasmonik [1], Mikro- und Nanooptik [2], Nanophotonik [3, 4] und Biomedizin [5, 6]. Zudem können Strukturen mit subwelligen Dimensionen die Charakterisierungsleistung im Mikro- und Nanomaßstab verbessern [7, 8]. Beispielsweise können Spitzen [9] und Nanoantennen [10] zur Verbesserung der Charakterisierungsleistung hochauflösender Strukturen durch Verstärkung der Lichtkonfinierung im Nahfeld eingesetzt werden, und Gitter [11] können optische Information vom Nah- in das Fernfeld transformieren.

Zur Realisierung hochauflösender Strukturen wird die Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) aufgrund ihrer Fähigkeiten, hohe Auflösung und 3D-Fertigung zu erreichen, häufig genutzt [12]. Die 2PP basiert auf Zwei-Photonen-Absorption (2PA), einem nichtlinearen Prozess, der theoretisch Auflösung unterhalb der Beugungsgrenze ermöglicht. Verschiedene 2PP-basierte Methoden, wie Hinzufügen eines Photoinitiators mit hoher Initiationseffizienz [13], Formung der räumlichen Phase des Deaktivierungsstrahls [14], Verwendung von Sub-10-fs [15] und 520-nm-Femtosekundenlaserpulsen [16], Kombination mit Hybridoptik [17] und entwickelter Sub-Beugungs-optischer Strahllithografie [18], wurden angewendet, um Merkmalsgrößen im Sub-100-nm-Maßstab zu realisieren. Diese Größen werden jedoch meist an freitragenden Linien oder einer einzelnen Linie erreicht. Es bleibt herausfordernd, periodische Strukturen mit Merkmals- und Lückengrößen jenseits der Beugungsgrenze experimentell zu realisieren, aufgrund des Radikaldiffusionseffekts im Lückenbereich, wenn der Mitte-zu-Mitte-Abstand benachbarter Merkmale sehr klein wird [19]. Dennoch wurden einige Strategien für periodische Strukturen mit nanoskaligen Lückenabständen demonstriert. Photonic Crystals mit periodischer Distanz von 400 nm wurden durch Hinzufügen eines Quencher-Moleküls in den Photolack realisiert [20]. Mit diesem Ansatz beträgt die Lückengröße zwischen benachbarten Linien der Photonic Crystals etwa 300 nm. Zudem wurden Gitterlinien mit periodischer Distanz von 175 nm und Lückengröße von 75 nm durch eine STED-Lithografietechnik erreicht [19]. Kürzlich wurde gezeigt, dass ein direkter thermischer Nachbehandlungsprozess der Proben durch Kalzinieren Merkmalsgrößen bis ca. 85 nm ermöglicht [21]. Die oben genannten Ansätze ermöglichten die Realisierung periodischer Strukturen mit Lückengrößen unterhalb der Beugungsgrenze. Sie sind jedoch recht speziell mit höheren Kosten, komplexeren Operationen und Verfahren im Vergleich zu 2PP.

In dieser Arbeit wird eine experimentelle Untersuchung zur Realisierung eines periodischen Geräts (Abb. 1) mit sowohl Merkmals- als auch Lückengrößen unterhalb der Beugungsgrenze mittels 2PP durchgeführt. Die hochauflösende periodische Struktur, bestehend aus Gitterlinien mit periodisch dazwischen angeordneten Säulen, wurde für die Verbesserung der Charakterisierungsauflösung der interferometrischen Fourier-Transformations-Streuometrie (IFTS) [22, 23] vorgeschlagen, einer Methode zur Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen. Bekanntlich wird die räumliche Auflösung von Strukturen hauptsächlich durch photosensible Materialien, optisches System und Verarbeitungsparameter bestimmt [15]. Speziell haben Forscher berichtet, dass die Orientierung der Laserstrahlpolarisation die Strukturdimensionen beeinflussen kann [24]. Wenn ein Laser linear polarisiert parallel zur Laserscanrichtung ist, kann eine minimale Merkmalsdimension realisiert werden. Daher ist der in den Experimenten verwendete Laser mit einer linearen Polarisation parallel zur Laserscanrichtung ausgestattet, um kleinere Merkmalsgrößen zu erhalten. Basierend auf dieser Konfiguration wird zunächst der Effekt der Laserintensität auf die Merkmalsgrößen untersucht. Dann wird der Einfluss verschiedener photosensitiver Materialien auf die Strukturformierung verglichen. Wenn der Laser Strukturen direkt auf einem Glassubstrat schreibt, polymerisiert nur ein Teil des Voxels den Photolack, da der andere Teil des Voxels im Glassubstrat liegt. Durch die elliptische Geometrie des Voxels wird speziell die Idee vorgestellt, die Merkmals- und Lückengröße durch Steuerung der Laserfokusposition relativ zum Glassubstrat zu reduzieren. Die Merkmalsgrößen von Gitterlinien (gefertigt in der Ebene senkrecht zur Hauptachse des Voxels) und Säulen (gefertigt in der Ebene entlang der Hauptachse des Voxels) in Abhängigkeit von relativen Laserfokuspositionen werden jeweils untersucht. Als Ergebnis werden Gitterlinien mit einer minimalen Breite von 78 nm und Säulen mit einem Durchmesser von 110 nm realisiert. Zusätzlich wird die vorgeschlagene Struktur mit einer Flächengröße von 20×20 µm, einer periodischen Distanz von 200 nm und einer Lückengröße von 65 nm durch separates Fertigen von Gitterlinien und Säulen demonstriert.

Schematische Illustration der vorgeschlagenen periodischen Struktur. Die periodische Distanz zwischen benachbarten Merkmalen wird durch PD dargestellt

Methoden

Fertigungsmethode

Die in dieser Arbeit vorgestellten Strukturen wurden mittels Zwei-Photonen-Polymerisation gefertigt. Eine schematische Illustration des experimentellen Setups ist in Abb. 2 gezeigt. Dieses 2PP-Fertigungssystem, das auch kommerziell erhältlich ist [25, 26], kann alle Achsen simultan koordinieren und die volle Verfahrbereich ohne Stepping und Stitching bei einer Geschwindigkeit von bis zu 50 mm/s erreichen. Ein linear polarisierter Femtosekundenlaser mit frequenzverdoppeltem Ausgang bei 513 nm, einer Pulsbreite von 60 fs und einer Wiederholrate von 76 MHz wird verwendet. Die Laserleistung wird durch ein Halbwellenplättchen und einen polarisierenden Strahlteilerwürfel gesteuert. Hochpräzise Luftlager-Translationsstufen mit einem Verfahrbereich von 15 cm werden ebenfalls eingesetzt. Eine CCD-Kamera ist für Online-Monitoring montiert. Der Polymerisationsprozess kann durch eine CCD-Kamera überwacht werden, aufgrund der Brechungsindexänderung des Photolacks, induziert durch die Polymerisation. Das Probenmaterial besteht aus einem Tropfen photosensitiven Materials auf dem Glassubstrat, das an der Translationsstufe mit Photolack auf der Unterseite befestigt ist. Der Laserstrahl wird durch ein 100×-Öl-Immersions-Mikroskopobjektiv mit hoher numerischer Apertur (NA) von 1,4 in den Photolack fokussiert.

Schematisches Diagramm des 2PP-Fertigungssystems

Materialien

Die Leistung verschiedener Photolacke in der Strukturfertigung kann aufgrund ihrer einzigartigen chemischen Zusammensetzungen und physikalischen Eigenschaften variieren. In dieser Arbeit werden Photolacke namens Sol-Gel-organisch-anorganisches Zr-Hybridmaterial [27] und E-Shell 300 (Envisiontec) jeweils für die Strukturierung verwendet. Zr-Hybridmaterial ist ein hochviskoses zirconiumbasiertes Sol-Gel-organisch-anorganisches Hybridpolymer, das für seine geringe Schrumpfung und hohe Stabilität in der 2PP-Fertigung bekannt ist. Die Herstellungsverfahren und anderen optischen Eigenschaften dieses Photolacks finden sich in Ref. [27]. E-Shell 300 ist ein dimethacrylatbasierter flüssiger Photolack mit einer Viskosität von 339,8 mPa·s. Er kann für 3D-Druck und Fertigung von Hörgeräten und medizinischen Geräten sowie Strukturen mit hoher Auflösung, Festigkeit, Steifigkeit und chemischer Beständigkeit verwendet werden.

Ergebnisse und Diskussion

Die Verarbeitungsparameter spielen eine wichtige Rolle bei der Bestimmung der Merkmalsgrößen von Strukturen. Unter ihnen ist die Laserintensität ein Parameter, der die Strukturformierung effektiv beeinflussen und präzise und bequem gesteuert werden kann. Dieser Parameter kann mit der in Ref. [28] gegebenen Formel ermittelt werden:

$$ I = \frac{2 P T M^{2}}{\pi w_{0}^{2} f \tau} $$ (1)

wobei P die durchschnittliche Laserleistung [4, 28], T den Transmissionskoeffizienten des Objektivs/Systems (T=15 % [4]), M2 die Strahlqualität mit M2=1,1, f die Wiederholrate, τ die Pulsdauer und w0 den Strahlradius mit \(w_{0}=0,61 \frac {\lambda }{NA}\) (w0≈223,5 nm) darstellt. In dieser Formel geben \(\frac {P}{f}\) und \(\frac {P}{f\tau}\) die Energie pro Puls und die durchschnittliche Leistung pro Puls an. Die Intensitätseinheit kW/µm² wird anstelle von TW/cm² (1 TW/cm² = 10 kW/µm²) verwendet, um anschaulich darzustellen, wie viel Leistung tatsächlich in den Fokusbereich konzentriert wird, der ebenfalls einen mikrometermaßstäblichen Bereich hat (\(\pi w_{0}^{2} \approx 0,16\) µm²). Hier wurde eine Untersuchung zum Effekt der Laserintensität auf Einzel-Linien-Dimensionen durchgeführt. Beide Materialien, Zr-Hybridmaterial und E-Shell 300, wurden für die Studie verwendet. Die Linienbreite und -höhe aus beiden Materialien in Abhängigkeit von der Laserintensität I sind jeweils in Abb. 3a (Zr-Hybridmaterial) und Abb. 3b (E-Shell 300) dargestellt. Eine Geschwindigkeit von 7 µm/s wurde für die Fertigung verwendet. Die Laserintensität I liegt im Bereich 0,67–0,78 kW/µm² (entsprechender Laserleistungsbereich 1,44–1,69 mW) für Zr-Hybridmaterial und 0,78–1,02 kW/µm² (Laserleistungsbereich 1,69–2,20 mW) für E-Shell 300. Man sieht, dass die Merkmalsgrößen (sowohl Durchmesser als auch Höhe) mit steigender Laserintensität zunehmen. Im Fall von Zr-Hybridmaterial (Abb. 3a) kann bei einer Laserintensität von ca. 0,67 kW/µm² die laterale Dimension eines Voxels auf etwa 115 nm reduziert werden, was unterhalb der Beugungsgrenze liegt (die Beugungsgrenze \(\frac {\lambda }{2NA}=185\) nm). Es kann auch berechnet werden, dass das Aspektverhältnis (Höhe zu Breite) im Bereich 2,5–4 liegt. Für E-Shell 300 (Abb. 3b) wurde eine Linienbreite von 178 nm realisiert, als die Laserintensität 0,78 kW/µm² betrug. Diese Merkmalsdimension liegt unterhalb der Beugungsgrenze (185 nm). Basierend auf der obigen Untersuchung kann geschlossen werden, dass die Merkmalsgrößen effektiv durch die angewendete Laserintensität beeinflusst werden. Eine kleinere Merkmalsgröße kann durch Reduzierung der Laserintensität realisiert werden.

Linien-Dimensionen versus Laserintensität I. Die für die Strukturierung verwendete Geschwindigkeit beträgt 7 µm/s. Die roten und blauen Linien sind lineare Anpassungsergebnisse von Voxel-Breite und -Höhe. a Breite und Höhe einer einzelnen Linie aus Zr-Hybridmaterial. b Breite und Höhe einer einzelnen Linie aus E-Shell 300

Einfluss verschiedener Materialien auf die Strukturformierung durch 2PP

Für die Untersuchung des Einflusses von Materialien auf die Strukturformierung wurden verschiedene periodische Gitterlinien mit den im Abschnitt "Materialien" eingeführten Materialien gefertigt. Eine Schreibgeschwindigkeit von 7 µm/s wurde angewendet. Abb. 4a und b sind jeweils die REM-Bilder von periodischen Gitterlinien aus Zr-Hybridmaterial und E-Shell 300 mit der periodischen Distanz (PD, illustriert in Abb. 1) von 1 µm. Die für die Fertigung angewendete Laserintensität betrug 1,25 kW/µm² (entsprechend Laserleistung 2,7 mW) für Zr-Hybridmaterial und 1,02 kW/µm² (entsprechend Laserleistung 2,2 mW) für E-Shell 300. Man sieht, dass die Gitterlinien aus beiden Materialien glatt sind. Abb. 4c und d zeigen die REM-Bilder von periodischen Gitterlinien aus Zr-Hybridmaterial und E-Shell 300 mit PD=400 nm. Mit der Abnahme der periodischen Distanz wird die für die Fertigung verwendete Laserintensität ebenfalls reduziert, um hohe Auflösung zu erreichen und gleichzeitig Überpolymerisation im Raum zwischen benachbarten Merkmalen zu vermeiden. In dieser Untersuchung wurde eine Laserintensität von 0,69 kW/µm² für die Fertigung mit beiden Materialien angewendet. Mit dem reduzierten PD sind die Gitterlinien aus Zr-Hybridmaterial körnig (Abb. 4c), während jene aus E-Shell 300 weniger Rauheit aufweisen (Abb. 4d). Die Körnigkeit der Gitterlinien aus Zr-Hybridmaterial könnte auf eine instabile Polymerisation resultieren, die durch die Nähe der reduzierten Laserleistung zur Polymerisationsschwelle des Materials verursacht wird. Dieser Vergleich zeigt, dass E-Shell 300 besser für die Fertigung von Strukturen mit nanoskaliger periodischer Distanz geeignet ist. Zusätzlich sind alle mit REM beobachteten Strukturen mit einer 20-nm-dicken Goldschicht beschichtet.

REM-Bilder von Gitterlinien, gefertigt mit verschiedenen Materialien. Die Fertigungsgeschwindigkeit beträgt 7 µm/s. a Material: Zr-Hybridmaterial; PD=1 µm; Laserintensität: 1,25 kW/µm². b Material: E-Shell 300; PD=1 µm; Laserintensität: 1,02 kW/µm². c Material: Zr-Hybridmaterial; PD=400 nm; Laserintensität: 0,69 kW/µm². d Material: E-Shell 300; PD=400 nm; Laserintensität: 0,69 kW/µm²

Untersuchung der Strukturformierung in Abhängigkeit von der Laserfokusposition

Um die Nanostrukturen auf der Oberfläche des Glassubstrats zu platzieren, muss der Laserstrahl während des 2PP-Prozesses an der Substrat/Photolack-Grenzfläche fokussiert werden. Somit kann nur ein Teil des Voxels die Polymerisation des Photolacks initiieren. Der andere Teil des Voxels liegt im Glassubstrat, um die Haftung der Strukturen zu gewährleisten. Da die Voxelgeometrie elliptisch ist, existiert eine Variation ihrer Querschnittsgröße entlang der Hauptachse. In der hochauflösenden Mikro- und Nanofabrikation ist die Variation der Voxel-Querschnittsgröße an der Grenzfläche von Substrat und Photolack von großem Interesse für die Beeinflussung der Strukturformierung und ihrer Merkmalsgröße.

Abbildung 5 ist eine schematische Illustration der Laserfokusanpassung entlang der z-Richtung. Die Position an der Grenzfläche zwischen Photolack und Substrat wird als Referenzfokusposition z0 definiert (Abb. 5a). Da der Photolacktropfen auf der Unterseite des Glassubstrats liegt, bewegt sich der Laserfokusfleck von der Referenzposition z0 nach unten in den Photolack. Der Abstand zwischen der aktuellen Laserfokusposition z und der Referenzposition z0 wird durch Δz=|z−z0| dargestellt. Der in Abb. 5b und c dunkelgrün markierte Bereich stellt den Laserfokusbereich innerhalb des Photolacks dar, der die Polymerisation mit Lichtintensität über der Polymerisationsschwelle ermöglicht. Unterschiedliche Merkmalsgrößen können durch Platzieren des Laserfokus an verschiedenen z-Positionen realisiert werden. Die Merkmalsgröße w wird durch die durchschnittliche volle Breite bei halber Maximierung (FWHM, Abb. 5c) der Merkmale charakterisiert, die an der gleichen z-Position in einem Array gefertigt werden.

Illustration der Variation der Laserfokusposition entlang der z-Richtung

Periodische Gitterlinien, gefertigt mit verschiedenen Laserfokuspositionen, wurden wie in Abb. 6 dargestellt erhalten. Die periodische Distanz (PD) zwischen Gitterlinien beträgt 1 µm. Mit diesem engen PD beginnen benachbarte Merkmale, sich durch zusätzliche Polymerisation im Lückenbereich zu verbinden, wenn der Laser mit Δz=500 nm fokussiert wird (Abb. 6a). Die Cluster außerhalb der Gitterlinien resultieren aus zusätzlicher Polymerisation. Während des 2PP-Prozesses werden freie Radikale durch laserinduzierte Bindungsspaltung in den Photoinitiator-Molekülen erzeugt. Diese Radikale akkumulieren in den kleinen Lücken zwischen benachbarten Merkmalen, was zu einer Erhöhung der Radikalkonzentration führt. Diese hohe Radikalkonzentration kann die Polymerisationsschwelle überschreiten und somit zu unerwünschter Polymerisation führen. Zudem kann eine instabile Haftung der polymerisierten Strukturen am Substrat resultieren. In diesem Fall können die Strukturen während des Entwicklungsprozesses leicht abgewaschen werden. Wenn der Fokus des Laserstrahls mehr im Substrat liegt, wird weniger Photolack polymerisiert. Wie in Abb. 6b dargestellt, wurden in diesem Fall Gitterlinien mit einer Breite von 78 nm erreicht. Allerdings ist auch eine schwache Sichtbarkeit der Struktur zu sehen. Daher ist es von großer Bedeutung, während des Polymerisationsprozesses eine geeignete Laserfokusposition zu haben, nicht nur für eine höhere Auflösung, sondern auch für eine bessere Haftung der Struktur am Substrat.

Einfluss der Laserfokuspositionen auf die Strukturformierung. Material: E-Shell 300. a Vertikale Gitterlinien, gefertigt mit Laserfokus mehr im Photolack. Die Laserintensität für die Fertigung I=0,71 kW/µm² (entsprechend Laserleistung 1,55 mW), die relative Laserfokusdistanz Δz=500 nm. Zusätzliche Polymerisation zwischen den Merkmalen wird erzeugt, und benachbarte Merkmale sind verbunden. b Vertikale Gitterlinien, gefertigt mit Laserfokus mehr im Substrat. Die Laserintensität für die Fertigung I=0,65 kW/µm² (entsprechend Laserleistung 1,4 mW), die relative Laserfokusposition Δz=0 nm

Bezüglich des Einflusses der Laserfokusposition auf die Merkmalsgrößen wurde eine Untersuchung ihres Effekts auf die Gitterlinien durchgeführt, die in der x−y-Ebene gefertigt werden. Durch Erhöhen der relativen Distanz Δz wurden Gitterlinien unter verschiedenen Laserfokuspositionen erhalten. Die gemessene Breite der Gitterlinien wl in Abhängigkeit von den relativen Laserfokuspositionen ist als Punkte in Abb. 7a dargestellt. Die für die Fertigung verwendete Laserintensität beträgt 0,85 kW/µm² (entsprechend Laserleistung 1,84 mW). Die rote Kurve zeigt ein elliptisches Anpassungsergebnis, bei dem die Hauptachse konsistent mit der z-Achse ist. Die entsprechende Ellipse wurde rekonstruiert (siehe untere rechte Ecke von Abb. 7a) mit der elliptischen Formel \(\left (\frac {x}{a}\right)^{2}+\left (\frac {400-y}{b}\right)^{2}=1\), wobei (400,0) der Mittelpunkt der Ellipse ist, b=90 die halbe kleine Achse, a=5,65b die halbe große Achse, x die relative Distanz Δz entlang der Hauptachse darstellt, und y die halbe Fokusgröße L darstellt, die entlang der kleinen Achse liegt. Das Ergebnis zeigt, dass die Linienbreite der Laserfokus-Querschnittsgröße folgt, die sich entlang der Hauptachse der elliptischen Voxelgeometrie ändert. Wenn die relative Position Δz=50 nm beträgt, wurden Gitterlinien mit einer Merkmalsgröße von wl=130 nm realisiert (Abb. 7b). Zusätzlich wurden durch Reduzierung der Laserintensität Gitterlinien mit wl=100 nm an der gleichen Laserfokusposition erhalten, wie in Abb. 7c dargestellt.

Gitterlinien, gefertigt in der x−y-Ebene in Bezug auf verschiedene relative Laserfokusdistanzen Δz. Material: E-Shell 300. Eine Schreibgeschwindigkeit von 7 µm/s wurde angewendet. a Gemessene Linienbreite und angepasste Kurve in Bezug auf verschiedene Δz. Die Abbildung in der unteren rechten Ecke ist eine Rekonstruktion der der angepassten Linie entsprechenden Ellipse. b Gitterlinien, gefertigt mit Laserintensität I=0,85 kW/µm² (mit Laserleistung P=1,84 mW). Die relative Laserfokusdistanz beträgt Δz=50 nm. c Gitterlinien, gefertigt mit Laserintensität I=0,78 kW/µm² (mit Laserleistung P=1,69 mW). Die relative Laserfokusdistanz beträgt Δz=50 nm

Der Einfluss der Laserfokusposition auf die Merkmalsgrößen von Säulen wurde ebenfalls untersucht. Die Säulen werden durch Bewegen des Fokusflecks orthogonal zur Substratebene realisiert, was in der Ebene der Hauptachse des Voxels (x−z oder y−z Ebene) liegt. Eine einzelne Säule wurde durch Bewegen des Laserstrahls entlang der z-Richtung mit einer Distanz von 1 µm gefertigt. Abb. 8a ist das REM-Bild von Säulen, hergestellt mit verschiedenen Laserintensitäten und relativen Distanzen Δz. Der Abstand zwischen den Zentren benachbarter Säulen beträgt 400 nm entlang der x-Richtung und 500 nm entlang der y-Richtung. Die Laserintensität wurde von links nach rechts mit einem Schritt von ca. 0,23 kW/µm² (entsprechend Laserleistung 0,5 mW) erhöht. Die relative Distanz zwischen der Laserfokusposition z und der Referenzposition z0 wurde von unten nach oben entlang der vertikalen Richtung erhöht. Abb. 8b zeigt gemessene Säulendurchmesser wp bezüglich Laserintensität und relativer Distanz Δz. Der Durchmesser einer Säule wp wird durch Messen ihres FWHM ermittelt. Die Laserintensität liegt im Bereich 0,74–0,96 kW/µm². Man beobachtet, dass wp mit der Abnahme sowohl von Δz als auch der Laserintensität abnimmt. Wenn Δz=150 nm, wurde eine Säule mit einem Durchmesser von wp≈110 nm mit einem relativ großen Laserintensitätsbereich (0,74–0,81 kW/µm²) erreicht. Es gibt auch ein relativ stabiles Fenster für die Säulengrößen, wenn ein Säulenarray gefertigt wird, wie in Abb. 8c–d dargestellt, welche die REM-Bilder eines Säulenarrays sind, gefertigt mit Laserintensität I=0,74 kW/µm² und einer relativen Distanz von Δz=300 nm. Das Aspektverhältnis der Säule beträgt ca. 2. Es zeigt, dass die Reproduzierbarkeit der Säule sehr gut funktioniert.

Säulenarrays, gefertigt mit verschiedenen Laserintensitäten und Laserfokus-relativen Distanzen Δz. Material: E-Shell 300. a REM-Bild von Säulen, gefertigt mit verschiedenen Laserintensitäten und relativen Laserfokuspositionen. b Gemessene Säulendurchmesser wp in Bezug auf Laserintensität I und relative Distanz Δz. Laserintensität ist jeweils 0,74 kW/µm², 0,81 kW/µm², 0,90 kW/µm² und 0,96 kW/µm² mit entsprechender Laserleistung 1,59 mW, 1,75 mW, 1,94 mW und 2,07 mW. c Draufsicht des Säulenarrays. d REM-Bild des Säulenarrays, betrachtet mit 45°

Fertigung periodischer Strukturen mit Merkmalsgrößen und Lückengröße unterhalb der Beugungsgrenze

Basierend auf den jeweiligen Untersuchungen zu den Merkmalsgrößen von periodischen Gitterlinien (gefertigt in der x−y-Ebene) und Säulen wurde die vorgeschlagene hochauflösende periodische Struktur aus Gitterlinien und Säulen gefertigt. Ihre Größe beträgt 20×20 µm mit einer periodischen Distanz von 200 nm zwischen dem Zentrum der Gitterlinie und der Säule. In dieser Arbeit wird die Strategie vorgeschlagen, hochauflösende Strukturen mit einer periodischen Distanz von 200 nm durch separates Fertigen von Gitterlinien und Säulen zu erreichen. In diesem Fall beträgt die periodische Distanz PD zwischen benachbarten Gitterlinien und benachbarten Säulen 400 nm. Während des Polymerisationsprozesses existiert ein größerer Lückenbereich zwischen den Merkmalen, wenn Gitterlinien und Säulen separat gefertigt werden. Dieser temporär erweiterte Lückenbereich ermöglicht die Reduzierung der Radikalanhäufung, die zu unerwünschter Polymerisation im Lückenbereich führen könnte. Es muss beachtet werden, dass die Laserfokusposition auch während des Fertigungsprozesses angepasst werden muss. Strukturen, gefertigt mit ungeeigneter Laserfokusposition, sind in Abb. 9a und b dargestellt. Man sieht, dass Linien und Säulen verbunden sind, wenn der Laserfokus zu stark im Photolack liegt. Abb. 9c–f sind die REM-Bilder von Strukturen mit gut positioniertem Laserfokus [23]. Durch richtiges Platzieren der Laserfokusposition und Nutzung der oben bereitgestellten Fertigungsstrategie wurde eine Struktur mit Dimensionen unterhalb der Beugungsgrenze (Linienbreite 110 nm, Säulendurchmesser 135 nm und Lückengröße 65 nm) realisiert, wie in Abb. 9e gezeigt.

REM-Bilder der 2PP-gefertigten periodischen Struktur mit PD=200 nm. Material: E-Shell 300. Intensität für die Fertigung von Gitterlinien: I=0,83 kW/µm²; Säulen: I=0,6 kW/µm². Die relative Laserfokusdistanz für die Fertigung von Gitterlinien und Säulen beträgt 300 nm. a–b Periodische Strukturen, gefertigt mit Laserfokuspositionseinstellung im Photolack. c–d REM-Bilder periodischer Strukturen mit korrekter Laserfokusposition. e Draufsicht der Struktur, gefertigt mit korrekter Laserfokusposition. f REM-Bild des gesamten Arrays

Fazit

Zusammenfassend haben wir den Einfluss verschiedener Photolacke und Verarbeitungsparameter auf die Strukturformierung verglichen und den Weg vorgestellt, die räumliche Auflösung zu verbessern und die Lückengröße zwischen benachbarten Merkmalen durch Steuerung der Laserfokusposition entlang der z-Richtung zu reduzieren. E-Shell 300 wurde experimentell als besser geeignetes Material für die Fertigung von Strukturen mit einer räumlichen Auflösung unter 200 nm bewiesen. Wir gelangten auch dazu, eine periodische Struktur mit einer Lückengröße von 65 nm und einer Merkmalsgröße von 110 nm zu erreichen. Die Größen liegen weit unter der Abbe-Beugungsgrenze. Weitere Untersuchungen zur optischen Leistung (z. B. Signalverstärkung optischer Bilder) dieser hochauflösenden Struktur werden attraktiv sein.

Abkürzungen

2PA:
Zwei-Photonen-Absorption
2PP:
Zwei-Photonen-Polymerisation
FWHM:
Volle Breite bei halber Maximierung
IFTS:
Interferometrische Fourier-Transformations-Streuometrie
NA:
Numerische Apertur
PD:
Periodische Distanz
SEM:
Rasterelektronenmikroskop

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